小型离子溅射仪库号：M389279

小型离子溅射仪库号：M389279小型离子溅射仪库号：M389279

小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。

主要规格和技术指标：
1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%
2、真空室：直径：160mm，高：110mm
3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm
4．工作真空： 8×10-2—2×10-1 mbar
5.离子电流表：电流：50mA
6.数显计丨时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。
7.溅射电压：-1600DVC
8.真空泵（VTD-4）:1.1升/每秒
9.工作室工作媒介气体：空气或氩气等多种气体
10．针阀： 配有进气口，微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管
11. 外型尺寸：360mm×300mm×380mm

小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。